半導体製造の洗浄過程で使用される薬液の温度管理は製品の品質や生産性を左右する重要なファクターです。
非常に小型のモジュールで、流路チューブをダイレクトに温度制御する方式ですので従来のタンクで薬液を温調するよりも10-30%使用量の削減が見込めます。
さらに動作部分がないシンプル構造のため振動・ノイズもなくメンテナンスがほとんど不要です。

「直接温調方式（CleanStream）と間接温調方式（バス型）との比較」

１. 間接温度コントロール方式のテフロンチュービングは、ストレス由来の亀裂やピンホールリークが懸念されます。
２. 間接温度コントロール方式は、テフロンチュービング表面における酸の拡散による循環冷却液の劣化が懸念されます。
３. 直接温度コントロール方式のCleanStreamはチラーによる冷却水を使用しないので、リークが発生した場合でもコンタミネーションを起こしません。
４. CleanStreamの接液部は最高の耐薬品性を誇るHD PFAテフロンチュービングのみ使用しています。
５. CleamStreamによる72時間の溶液循環でもサブppb レベルの金属コンタミネーションは確認されません。